Detalhes do produto:
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| Nome do produto: | Óxido do háfnio, dióxido do háfnio (IV) | Fórmula molecular: | HfO2 |
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| Cor: | Branco ou esbranquiçado | Formulário: | Pó |
| CAS: | 12055-23-1 | Ponto de derretimento: | °C 2810 |
| Densidade: | 9,68 g/mL | solubilidade: | Insolúvel na água |
| Condições de armazenamento: | nenhumas limitações | Área de aplicação: | Para a produção de matérias primas do háfnio e da liga de háfnio. É usado como o material de revesti |
| Realçar: | dióxido do telúrio,óxido do háfnio |
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Óxido HfO2 CAS 12055-23-1 do háfnio para o metal do háfnio e os materiais de revestimento
Nome: Óxido do háfnio Fórmula molecular: HfO2
CAS: 12055-23-1 Peso molecular: 210,49
Descrição: O óxido do háfnio é um pó branco com as estruturas de cristal monoclínicas, tetragonal e cúbicas, insolúveis na água, no ácido clorídrico e no ácido nítrico, em solúveis no ácido sulfúrico concentrado e no ácido fluorídrico. O sulfato do háfnio [HF (SO4) 2] é formado reagindo com o ácido sulfúrico concentrado quente ou o sulfato ácido. Após a mistura com o carbono, o tetracloreto do háfnio (HfCl4) é formado pelo aquecimento e pela desinfecção, e pelo fluossilicato do potássio é formado reagindo com o fluossilicato do potássio para formar o fluohafnate do potássio (K2HfF6). O óxido do háfnio pode ser preparado pela decomposição térmica ou pela hidrólise do sulfato do háfnio, do oxicloreto do háfnio e dos outros compostos.
Especificação:
| Nome | HfO2_99.9 | HfO2_99.5 | |||
| Fórmula molecular | HfO2 | HfO2 | |||
| CAS | 12055-23-1 | 12055-23-1 | |||
| HfO2 | %wt | ≥99.9 | ≥99.5 | ||
| Índice de impureza | Fe2O3 | %wt | ≤0.003 | ≤0.010 | |
| SiO2 | %wt | ≤0.005 | ≤0.020 | ||
| Al2O3 | %wt | ≤0.005 | ≤0.010 | ||
| MgO | %wt | ≤0.003 | ≤0.010 | ||
| CaO | %wt | ≤0.002 | ≤0.010 | ||
| TiO2 | %wt | ≤0.001 | ≤0.010 | ||
| Na2O | %wt | ≤0.001 | ≤0.010 | ||
| LOI | % | ≤0.30 | ≤0.40 | ||
| propriedade | Pó branco | ||||
| Aplicação | Para a produção de matérias primas do háfnio e da liga de háfnio. É usado como o material de revestimento, o refratário, o anti revestimento radioativo e o catalizador. | ||||
| pacote | Empacotamento convencional, empacotamento flexível de acordo com necessidades do cliente | ||||
Embalagem: 25 quilogramas na cubeta plástica, igualmente fornecem o pacote pequeno: 100g, 500g, e outros pacotes pequenos
Usos: O óxido do háfnio é a matéria prima para a produção de háfnio do metal e de liga de háfnio. É usado como o material de revestimento, o refratário, o anti revestimento radioativo e o catalizador. O dióxido do háfnio é um tipo do material cerâmico com diferença de faixa larga e constante dielétrica alta. Recentemente, atraiu a grande atenção na indústria, especialmente no campo da microeletrônica. Porque é mais provável substituir o dióxido de silicone do isolador da porta (SiO2) do transistor de efeito de campo do semicondutor de óxido de metal (MOSFET), o dispositivo do núcleo do circuito integrado silicone-baseado, para resolver o tamanho do desenvolvimento da estrutura tradicional de SiO2/si no problema do limite do MOSFET.
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